企业简介
深圳豪威真空光电子股份有限公司 main business:ITO导电玻璃、真空设备 and other products. Company respected "practical, hard work, responsibility" spirit of enterprise, and to integrity, win-win, creating business ideas, to create a good business environment, with a new management model, perfect technology, attentive service, excellent quality of basic survival, we always adhere to customer first intentions to serve customers, persist in using their services to impress clients.
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深圳豪威真空光电子股份有限公司的商标信息
| 序号 | 注册号 | 商标 | 商标名 | 申请时间 | 商品服务列表 | 内容 |
| 1 | 3856957 |  |
HIVAC | 2003-12-23 | 表面覆有带电导体的玻璃；光学玻璃；真空喷镀机械；电镀设备；电导体；磁性材料和器件；光学器械和仪器；真空计；仪表元件和仪表专用材料；检测仪器仪表 | 查看详情 |
| 2 | 3856955 |  |
豪威集团;HIVAC | 2003-12-23 | 表面覆有带电导体的玻璃;光学玻璃;真空喷镀机械;电镀设备;电导体;磁性材料和器件;光学器械和仪器;真空计;仪表元件和仪表专用材料;检测仪器仪表; | 查看详情 |
| 3 | 3856954 |  |
豪威集团;HIVAC | 2003-12-23 | 玻璃工业用机械;真空泵;空气压缩器;清洗装置;中心真空吸尘装置;磨光玻璃抛光机;光学冷加工设备;眼镜片加工设备;真空吸尘器;玻璃切割机; | 查看详情 |
| 4 | 3857206 |  |
HIVAC | 2003-12-23 | 玻璃工业用机械；真空泵；空气压缩器；磨光玻璃抛光机；光学冷加工设备；眼镜片加工设备；玻璃切割机 | 查看详情 |
| 5 | 3856960 |  |
镀膜专家;VACUUM COATING EXPERTS;HIVAC | 2003-12-23 | 表面覆有带电导体的玻璃；光学玻璃；真空喷镀机械；电镀设备；电导体；磁性材料和器件；光学器械和仪器；真空计；仪表元件和仪表专用材料；检测仪器仪表 | 查看详情 |
| 6 | 3856959 |  |
国际真空与薄膜;CHINAVACUUM.NET;CVN | 2003-12-23 | 主持计算机站(网站);替他人创建和维护网站;计算机软件设计;技术研究;技术项目研究;科研项目研究;工程绘图;材料测试;研究与开发(替他人);机械研究; | 查看详情 |
深圳豪威真空光电子股份有限公司的专利信息
| 序号 | 公布号 | 发明名称 | 公布日期 | 摘要 |
| 1 | CN200981891Y | 基片架镀膜装置 | 2007.11.28 | 本实用新型涉及一种基片架镀膜装置，是一种用于磁控溅射镀膜生产线上的基片架镀膜装置。包括基片架、至少一 |
| 2 | CN200981893Y | 基片处理装置 | 2007.11.28 | 本实用新型涉及一种基片处理装置，该基片处理装置包括：基片处理室、用于在基片处理室内承托基片的基片承托 |
| 3 | CN102723128B | 柔性透明导电薄膜及其制造方法和触控面板 | 2015.02.18 | 本发明提供一种透明导电薄膜及其制造方法，该薄膜包括柔性基材和透明导电氧化物层，所述柔性基材的表面由内 |
| 4 | CN102517553B | 磁控溅射镀膜生产系统及其生产工艺 | 2013.09.11 | 一种磁控溅射镀膜生产系统和工艺，该系统包括进出片室、过渡室、第一旋转室、两个工作站，进出片室、过渡室 |
| 5 | CN102723128A | 柔性透明导电薄膜及其制造方法和触控面板 | 2012.10.10 | 本发明提供一种透明导电薄膜及其制造方法，该薄膜包括柔性基材和透明导电氧化物层，所述柔性基材的表面由内 |
| 6 | CN102517553A | 磁控溅射镀膜生产系统及其生产工艺 | 2012.06.27 | 一种磁控溅射镀膜生产系统和工艺，该系统包括进出片室、过渡室、第一旋转室、两个工作站，进出片室、过渡室 |
| 7 | CN101130452B | 星型双回转磁控溅射导电玻璃镀膜生产线及生产工艺 | 2011.05.11 | 本发明公开了一种星型双回转磁控溅射导电玻璃镀膜生产线及生产工艺，该生产线包括A面进出片室、B面进出片 |
| 8 | CN101126153B | 一种能自动识别的基片架、识别方法及自动识别装置 | 2010.05.26 | 本发明公开了一种基片架，包括基片架本体，在基片架本体上开设有一组与基片架的编号相对应的能使光信号穿过 |
| 9 | CN101126152B | 柱状磁控溅射器 | 2010.04.21 | 本发明公开了一种柱状磁控溅射器，包括靶筒、弧形屏蔽罩和磁极装置，弧形屏蔽罩位于靶筒的侧面，所述磁极装 |
| 10 | CN100594256C | 制备AR膜的生产线 | 2010.03.17 | 一种制备AR膜的生产线，设有进出片真空室、过渡真空室、高真空室、镀膜真空室、折返前过渡真空室、折返真 |
| 11 | CN101270467A | 制备AR膜的生产线 | 2008.09.24 | 一种制备AR膜的生产线，设有进出片真空室、过渡真空室、高真空室、镀膜真空室、折返前过渡真空室、折返真 |
| 12 | CN101130452A | 星型双回转磁控溅射导电玻璃镀膜生产线及生产工艺 | 2008.02.27 | 本发明公开了一种星型双回转磁控溅射导电玻璃镀膜生产线及生产工艺，该生产线包括A面进出片室、B面进出片 |
| 13 | CN101126153A | 一种能自动识别的基片架、识别方法及自动识别装置 | 2008.02.20 | 本发明公开了一种基片架，包括基片架本体，在基片架本体上开设有一组与基片架的编号相对应的能使光信号穿过 |
| 14 | CN101126152A | 柱状磁控溅射器 | 2008.02.20 | 本发明公开了一种柱状磁控溅射器，包括靶筒、弧形屏蔽罩和磁极装置，弧形屏蔽罩位于靶筒的侧面，所述磁极装 |
| 15 | CN101126663A | 耐高温的隔热盒及温度记录仪 | 2008.02.20 | 本发明公开了一种耐高温的隔热盒，包括外盒和内盒，在外盒和内盒之间填充有长绒玻璃纤维，在内盒的表面具有 |
| 16 | CN201006891Y | 移动磁极式扫描溅射源 | 2008.01.16 | 本实用新型涉及一种移动磁极式扫描溅射源，该溅射源包括：溅射源安装座；设置在溅射源安装座上的用于承托靶 |
| 17 | CN201006893Y | 基片冷却装置 | 2008.01.16 | 本实用新型涉及一种基片冷却装置，该基片冷却装置包括：密封的基片冷却室；用于在基板冷却室中支撑并传送基 |
| 18 | CN200971381Y | 平面磁控溅射器 | 2007.11.07 | 本实用新型涉及一种平面磁控溅射器，该平面磁控溅射器包括：基座、设置在基座上用于承托靶材的靶材承托板以 |
| 19 | CN2938143Y | 一种新型反射膜 | 2007.08.22 | 本实用新型涉及一种新型反射膜，其膜系结构为：基材层/N1/N2/N1/Ag/Al，其中介质层N1相对 |
| 20 | CN2938142Y | 一种反射膜 | 2007.08.22 | 本实用新型涉及一种反射膜，其膜系结构为：基材层/N1/N2/N1/Ag/Al，其中介质层N1相对于介 |
| 21 | CN2656432Y | 旋转式磁控溅射靶 | 2004.11.17 | 本实用新型提出了一种用于大面积薄膜沉积的旋转式磁控溅射靶，包括永磁体1、靶材4和旋转机构12，所述旋 |
| 22 | CN2516564Y | 具有中频反应溅射二氧化硅的氧化铟锡玻璃在线联镀装置 | 2002.10.16 | 一种具有中频反应溅射二氧化硅的氧化铟锡玻璃在线联镀装置,依顺序连接有前端过渡真空室、中频反应磁控溅射 |
| 23 | CN2516565Y | 中频反应磁控溅射制备二氧化硅膜设备 | 2002.10.16 | 一种中频反应磁控溅射制备二氧化硅膜设备,包括真空镀膜室、双靶、反应气体供气管道、工作气体供气管道、中 |
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